為了滿(mǎn)足電子行業(yè)用水需求，根據(jù)光電材料，液晶顯示屏生產(chǎn)，加工，清洗等所需使用超純水標(biāo)準(zhǔn)，而設(shè)計(jì)的一套超純水設(shè)備。

　　第一，EDI超純水設(shè)備出水符合標(biāo)準(zhǔn)

　　超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

　　第二，EDI超純水系統(tǒng)工藝流程

　　預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)

　　第三，EDI應(yīng)用領(lǐng)域

　　電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

　　電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

　　顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)、配料用純水

　　黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水

　　液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

　　晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

　　集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

　　LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

　　高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

　　半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

　　超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

　　實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間

　　汽車(chē)、家電表面拋光處理

　　光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品